El NanoTR de NETZSCH mide difusividad, efusividad y resistencia interfacial de películas de 30 nm a 20 µm por termorreflectancia con pulsos láser de 1 ns.
Disponibilidad: este equipo se comercializa en Centroamérica, Argentina y Uruguay.
El NanoTR aplica termorreflectancia en el dominio del tiempo (TDTR) con un láser de bombeo de nanosegundos y un láser de sondeo continuo; la integración rápida de señales repetitivas da una buena relación señal/ruido. Permite pasar por software entre la configuración RF (calentamiento posterior/detección frontal, para sustratos transparentes) y FF (frontal/frontal, para sustratos opacos). Es trazable al SI mediante el material de referencia de película delgada RM1301-a del AIST (Japón).
| Láser de bombeo | Ancho de pulso: 1 ns Longitud de onda: 1550 nm Diámetro del haz: 100 μm |
|---|---|
| Láser de sonda | Ancho de pulso: continuo Longitud de onda: 785 nm Diámetro del haz: 50 μm |
| Valores medidos | Difusividad térmica, efusividad térmica, resistencia de interfase |
| Espesor de película de la muestra (método RF) | Resina: 30 nm … 2 μm Cerámica: 300 nm … 5 μm Metal: 1 μm … 20 μm |
| Espesor de película de la muestra (método FF) | Más de 1 μm |
| Sustrato | Material: opaco/transparente Tamaño: 10 … 20 mm cuadrado Espesor: 1 mm máx. |
| Difusividad térmica | Rango: 0.01 … 1000 mm²/s Exactitud: ± 6.2% con 40 min de medición, para CRM 5808A en modo RF, espesor de 400 nm Repetibilidad: ± 5% |
| Software | Cálculo de propiedades térmicas, análisis multicapa, base de datos |
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